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光刻胶g线、i线、KrF、ArF、EUV，到底是在说什么 - 知乎
到了90年代末，半导体制程工艺发展到350mm以下，g线和i线光刻胶已经无法满足这样的需求了，于是出现了适用于248nm波长光源的KrF光刻胶和193nm波长光源的ArF光刻胶。
248nm光刻胶
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富士胶片提供广泛用途的正性KrF光刻胶，适用于多种半导体应用。
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半导体材料：国内已量产 KrF 光刻胶树脂_技术_市场_规模
Mar 3, 2025 · PHS树脂专用于KrF光刻胶，阴离子聚合和自由基聚合是主要生产工艺。 KrF光刻胶指曝光光源达到248nm的光刻胶，以对羟基苯乙烯作为基材制成的光刻胶树脂（PHS树脂）在248nm处具有较高的光透过性和分辨率，热稳定性及化学稳定性极佳，是KrF光刻胶的主要树脂类型。
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SVM供应全面的光刻胶产品，包括宽带、I-Line、248nm、193nm、电子束、P型、N型、湿法和干法光刻胶。 SVM 为所有晶圆直径的图案化和蚀刻提供光阻解决方案。
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一种含叔胺的248nm光刻胶树脂的制备方法与流程
Apr 7, 2025 · 但是光刻胶的前道流程包含涂布、烘烤、曝光、显影、后烘烤，在这些工序中会导致有机胺小分子挥发，影响光刻工艺中的设备和环境。 技术实现思路 1、本发明的目的是提供一种含叔胺的248nm光刻胶树脂的制备方法。
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日本对华“光刻胶禁令”倒计时...
6 days ago · 然而，在更为关键的KrF（248nm）、ArF（193nm）乃至最前沿的EUV（极紫外）光刻胶领域，国内产能规模小，稳定批量供应能力不足，尚无法支撑先进制程 ...
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CN112485964B - 一种厚膜型248nm光刻胶组合物，其制备方法和涂覆基材 - Google...
本发明公开了一种厚膜型248nm光刻胶组合物，其制备方法及应用。 本发明的涂覆基材包含基材和形成在基材表面上的光刻胶组合物层，其中，所述的光刻胶组合物层中的光刻胶组合物包含以下组分：光致产酸剂、树脂和溶剂。
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2024年全球248nm光刻胶行业规模及市场占有率分析报告-格隆汇
Dec 19, 2024 · 恒州博智（QYResearch）调研团队最新发布的 【2024年全球248nm光刻胶行业总体规模、主要企业国内外市场占有率及排名】，本文侧重研究全球248nm光刻胶总体规模及主要厂商占有率和排名，主要统计指标包括248nm光刻胶产能、销量、销售收入、价格、市场份额及排名 ...
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耐高温及248nm光刻胶的技术进展与应用 - 知乎
248nm光刻技术作为DUV光刻的重要分支，其光刻胶需具备高透光率、低吸收度和高感光度。 这类光刻胶通常采用 聚对羟基苯乙烯 （PHS）作为成膜树脂，搭配磺酸酯类PAG，通过化学放大反应实现图形的高精度转移。
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上海新阳自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品已通过客户认证，并取...
Jul 1, 2021 · 上海新阳表示，KrF（248nm）厚膜光刻胶产品的开发和产业化是公司第三大核心技术——光刻技术的重要方向之一，本次产品认证的通过及订单的取得，标志着“KrF（248nm） 厚膜光刻胶产品的开发和产业化” 取得了成功，为公司在光刻技术领域目标的 全面完成奠定了坚实基础。