footing效应

DRIE Footing效应模拟及工艺参数影响研究

基脚（光学光刻中的一种现象）_百度百科

Dry etch常见profile类型、产生原理及相关改善方法 - 知乎

Dry etch常见profile类型、产生原理及相关改善方法 一、Bowing 二、Taper 三、Notch 四、Undercut 五、Footing 六、Micro-Trench 七、Necking 八、Loading effect 九、Plan •写在前面 Dry etch工艺过程中，我们所需传递的pattern多为line、trench、hole等。一般情况下，我们期望得到比较垂直的profile，但因为工艺过程中各种参...

一种可用于Footing效应模拟的ICP刻蚀模型.pdf - 原创力文档

2017年7月6日 · 本文在利用一种改进的复合交替深刻蚀 (TMDE)模 型对ICP刻蚀表面进行建模及数值模拟的基础上，根据Footing效应的实验表现特征，设定类高斯分布的表面描述方程。 同时 …

DRIE Footing效应模拟及工艺参数影响研究

2025年11月17日 · 打开万方数据APP，点击右上角"扫一扫"，扫描二维码即可将您登录的个人账号与机构账号绑定，绑定后您可在APP上享有机构权限，如需更换机构账号，可到个人中心解绑 …

反应离子深刻蚀中硅／玻璃结构footing效应的实验研究 - 道客巴巴

2016年5月1日 · 反应离子深刻蚀中硅／玻璃结构footing效应的实验研究 - 道客巴巴

基脚 - 搜狗百科

2020年12月30日 · “footing”是指在光刻工艺中由于显影不充分等原因导致光刻胶图形底部宽大的现象。

一种可用于Footing效应模拟的ICP刻蚀模型 - 豆丁网

2014年5月27日 · 性、被加工结构性能的一些效应，SOI结构中的Footing效应就是其中之一。 本文在利用一种改进的复合交替深刻蚀 (TMDE)模. 型对ICP刻蚀表面进行建模及数值模拟的基础 …

DRIE Footing效应模拟及工艺参数影响研究 - 百度学术

本文在以前北大微电子研究院对高深宽比硅刻蚀模拟研究的基础上,对高深宽比硅刻蚀工艺中的Footing效应,主要DRIE工艺参数对模型参数的影响等问题进行了深入的研究.Footing效应是指 …

DRIE Footing效应模拟及工艺参数影响研究

2017年11月30日 · 本文在以前北大微电子研究院对高深宽比硅刻蚀模拟研究的基础上，对高深宽比硅刻蚀工艺中的Footing效应、主要DRIE工艺参数对模型参数的影响等问题进行了深入的研究 …

在半导体制程中改善足部效应缺陷的方法 - X技术网

2005年6月8日 · 本发明关于一种于半导体制程中，图形重制时可改善足部效应缺陷 (Footing Defect)的方法，包括首先，形成一氮氧化硅 (SiON)层，并于氮氧化硅层表面上形成光阻层。